Axcelis Technologies, Inc.【ACLS】 業績・財務データ NASDAQ

アクセリス・テクノロジーズ社の設計、製造、サービスイオン注入や他の処理装置は、半導体チップの製造に用いられます。当社は、半導体製造産業セグメントの資本設備の製造を介して動作します。当社は、世界中の半導体チップの製造業者にその機器を販売しています。機器に加えて、使用するツール、スペアパーツ、機器のアップグレード、保守サービスおよび顧客トレーニングなどアフターマーケットのライフサイクルの製品とサービスを提供しています。当社は、様々なアプリケーションの要件については、高エネルギー、高電流、中電流注入装置のラインを提供しています。同社の他の製品は、従来のドライストリップ機器、硬化系および熱処理システムを含みます。当社のシステムは、比類のないスループット(毎時約500ウェーハ)、およびスポットビームを有効にする、単一のウェーハエンドステーションを組み合わせることにより、純度、精度と生産性を提供していますPurionプラットフォームに基づいています。

Axcelis Technologies, Inc.【ACLS】 業績・財務データ NASDAQ

アクセリス・テクノロジーズ社の設計、製造、サービスイオン注入や他の処理装置は、半導体チップの製造に用いられます。当社は、半導体製造産業セグメントの資本設備の製造を介して動作します。当社は、世界中の半導体チップの製造業者にその機器を販売しています。機器に加えて、使用するツール、スペアパーツ、機器のアップグレード、保守サービスおよび顧客トレーニングなどアフターマーケットのライフサイクルの製品とサービスを提供しています。当社は、様々なアプリケーションの要件については、高エネルギー、高電流、中電流注入装置のラインを提供しています。同社の他の製品は、従来のドライストリップ機器、硬化系および熱処理システムを含みます。当社のシステムは、比類のないスループット(毎時約500ウェーハ)、およびスポットビームを有効にする、単一のウェーハエンドステーションを組み合わせることにより、純度、精度と生産性を提供していますPurionプラットフォームに基づいています。

Axcelis Technologies, Inc.のROE推移

(単位:百万円) ROE 前年比
2023年12月 32.15% +5.9%
2022年12月 30.36% +57.06%
2021年12月 19.33% +74.3%
2020年12月 11.09% +169.17%
2019年12月 4.12% -65.78%
2018年12月 12.04% -73.68%
2017年12月 45.75% +714.06%
2016年12月 5.62% -31.38%
2015年12月 8.19% -225.04%
2014年12月 -6.55% -30.83%
2013年12月 -9.47% -44.26%
2012年12月 -16.99%
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