アクセリス・テクノロジーズ社の設計、製造、サービスイオン注入や他の処理装置は、半導体チップの製造に用いられます。当社は、半導体製造産業セグメントの資本設備の製造を介して動作します。当社は、世界中の半導体チップの製造業者にその機器を販売しています。機器に加えて、使用するツール、スペアパーツ、機器のアップグレード、保守サービスおよび顧客トレーニングなどアフターマーケットのライフサイクルの製品とサービスを提供しています。当社は、様々なアプリケーションの要件については、高エネルギー、高電流、中電流注入装置のラインを提供しています。同社の他の製品は、従来のドライストリップ機器、硬化系および熱処理システムを含みます。当社のシステムは、比類のないスループット（毎時約500ウェーハ）、およびスポットビームを有効にする、単一のウェーハエンドステーションを組み合わせることにより、純度、精度と生産性を提供していますPurionプラットフォームに基づいています。
アクセリス・テクノロジーズ社の設計、製造、サービスイオン注入や他の処理装置は、半導体チップの製造に用いられます。当社は、半導体製造産業セグメントの資本設備の製造を介して動作します。当社は、世界中の半導体チップの製造業者にその機器を販売しています。機器に加えて、使用するツール、スペアパーツ、機器のアップグレード、保守サービスおよび顧客トレーニングなどアフターマーケットのライフサイクルの製品とサービスを提供しています。当社は、様々なアプリケーションの要件については、高エネルギー、高電流、中電流注入装置のラインを提供しています。同社の他の製品は、従来のドライストリップ機器、硬化系および熱処理システムを含みます。当社のシステムは、比類のないスループット（毎時約500ウェーハ）、およびスポットビームを有効にする、単一のウェーハエンドステーションを組み合わせることにより、純度、精度と生産性を提供していますPurionプラットフォームに基づいています。
| （単位：百万円） | 前年比 | |
|---|---|---|
| 2023年12月 | 43.45％ | -0.5% |
| 2022年12月 | 43.67％ | +0.99% |
| 2021年12月 | 43.24％ | +3.32% |
| 2020年12月 | 41.85％ | -0.43% |
| 2019年12月 | 42.03％ | +3.55% |
| 2018年12月 | 40.59％ | +10.9% |
| 2017年12月 | 36.6％ | -1.9% |
| 2016年12月 | 37.31％ | +10.61% |
| 2015年12月 | 33.73％ | |
| 2013年12月 | 34.73％ | +21.43% |
| 2012年12月 | 28.6％ | -20.38% |
| 2011年12月 | 35.92％ |
